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17 2024 Elektronik 7 GMM-News entsprechend der aktuellen Roadmap im Jahr 2040 eine Linienbreite von nur noch circa 6 nm erreicht werden In den weiteren acht Vortragssessions und der Postersession widmete sich die Konferenz im Detail den aktuellen Problemen und Fortschritten in der Deep-Ultra-Violett DUV - und Extreme-Ultra-Violett EUV -Lithographie der Nano imprint-Lithographie NIL der Maskenherstellung der Metrologie und Inspektion sowie weiteren Anwendungen lithographischer Technologien wie zum Beispiel der Herstellung von photonischen Schaltkreisen oder von Bauelementen für Quantencomputer Die numerische Apertur vergrößern Zentrales Thema mehrerer Präsentationen waren Berichte über den Stand bei der High-NA-EUV-Entwicklung wobei NA für numerische Apertur steht Wie in allen optischen Technologien gilt auch für EUV entsprechend der Abbe‘- schen Auflösungsgrenze die Abhängigkeit der Auflösung von der verwendeten Wellenlänge – bei EUV liegt diese bei 13 5 nm – und der numerischen Apertur des optischen Systems Bei der aktuellen Gerätegeneration beträgt die numerische Apertur 0 33 Soll eine bessere Auflösung bei gleicher Wellenlänge erreicht werden muss die numerische Apertur vergrößert werden – für die kommende Gerätegeneration auf 0 55 Trotz der extremen Herausforderungen die zur Realisierung von High-NA-Belichtungsgeräten zu bewältigen waren Details hierzu sind in den Konferenzberichten der vergangenen Jahre zu finden zeigen nun die Beiträge von ASML und Imec dass die ersten High-NA-Geräte arbeitsfähig sind und die erwarteten Ergebnisse liefern In einer weiteren Präsentation machte Jan Van Schoot ASML in einem Satz das gesamte Spektrum der immer wieder neu zu lösenden Aufgaben deutlich »Key to continue Moore’s Law Resist Dose Contrast« Für ausreichenden Kontrast bei der Abbildung immer kleinerer Strukturen ist die bereits genannte numerische Apertur eine wichtige aber nicht die einzige Kenngröße Es ist also nicht überraschend dass nun über den nächsten Schritt zur Erhöhung der NA nachgedacht und berichtet wird Im Gespräch ist ein Wert von NA 0 75 mit der Bezeichnung Hyper-NA Die gegenwärtig verfügbaren EUV-Quellen bringen zwar genug Leistung für einen hohen Durchsatz aber zu einem schon jetzt hohen Preis für die circa 1000 W EUV-Leistung müssen etwa breites Instandhaltungssortiment präzise Messtechnik wie Netz-Analysegeräte und Multimeter passende Services wie die Kalibrierung Ihrer Geräte conrad de vorausschauendewartung Alle Teile des Erfolgs Jetzt handeln – bevor Sie rot sehen Verhindern Sie Maschinenausfälle mit der richtigen Technik