Der Blätterkatalog benötigt Javascript.
Bitte aktivieren Sie Javascript in Ihren Browser-Einstellungen.
The Blätterkatalog requires Javascript.
Please activate Javascript in your browser settings.
12 Elektronik 16 -17 2022 GMM-News Erfolgreiche Anknüpfung an Veranstaltungen vor der Corona-Pandemie EMLC 2022 endlich wieder als Präsenzkonferenz Nachdem die »Europäische Maskenund Lithographie-Konferenz« EMLC im Jahr 2020 ganz ausfallen musste und 2021 als virtuelle Veranstaltung mit Panel-Diskussionen stattfand konnte die 37 Auflage vom 20 Juni bis 22 Juni 2022 in Leuven Belgien wieder als Präsenzveranstaltung stattfinden Bisher waren München Dresden Grenoble und Eindhoven als Zentren der europäischen Hochtechnologie die Gastgeberstädte der EMLC Warum nun Leuven? Diese Universitätsstadt mit großer Geschichte ist auch der Sitz des Imec Interuniversity Microelectronics Center eines bei der Erforschung und Anwendung von Nano-Technologien weltweit führenden – von der Halbleiterindustrie unabhängigen – wissenschaftlichen Institute und muss daher ebenfalls zu den genannten Zentren gezählt werden Viele Beiträge die schon für die EMLC 2020 eingereicht oder eingeladen waren konnten endlich auch präsentiert werden sodass in diesem Jahr 41 Beiträge vorgetragen wurden davon vier Keynotes fünfzehn Invitedund acht studentische Präsentationen sowie neun Poster Die Inhalte der Präsentationen spiegelten die Entwicklungen der vergangenen drei Jahre an der vordersten Front der Lithographie-Technologie wider Während vor drei Jahren noch diskutiert wurde wie sich die EUV-Lithographie EUV – Extremes Ultraviolett-Licht mit einer Wellenlänge von 13 5 nm in der Halbleiter-Massenproduktion bewähren wird ist das jetzt zur Normalität geworden Die Grenzen des Machbaren verschieben Nun geht es darum wie mit dieser Technologie die Grenzen des Machbaren sowohl bei den Strukturgrößen als auch mit neuen an die inzwischen möglichen superfeinen Strukturen angepassten Transistortypen immer weiter hinausgeschoben werden können Dies wurde gleich in der ersten Keynote-Präsentation von Luc van den Hove Präsident des Imec besonders deutlich In einem Ausblick bis zum Jahr 2036 illustrierte er wie das Moore’sche Gesetz circa alle zwei Jahre kann die Anzahl von Transistoren die auf der gleichen Fläche Platz finden verdoppelt werden umgesetzt wird durch weitere Skalierung bis zum Technologieknoten 1 nm durch neue Transistortypen beginnend mit sogenannten Nanosheet-Transistoren und durch Stapeln der Transistoren in die dritte Dimension In der Keynote von Frank Abboud Intel sowie in weiteren sechs Präsentationen wurde direkt und detailliert auf die Aufgaben eingegangen die für die Herstellung von in der Massenproduktion anwendbaren EUV-Masken schon gelöst wurden und welche in der Zukunft anstehen werden Im Gegensatz zu konventionellen DUV-Masken die von Licht durchstrahlt werden sind EUV-Masken prinzipbedingt Spiegel mit einer Absorberschicht die dann bei der Maskenherstellung entsprechend der gewünschten Geometrien abgetragen wird Bei der Gestaltung und den Materialien der Spiegelund Absorberschichten sind noch wesentliche Fortschritte möglich und auch zu erwarten Mit EUV-Optiken und -Geräten beschäftigten sich weitere acht Vorträge und Präsentationen zum Beispiel von Jos P H Benschop und Jo Finders ASML Für die nächsten Technologieknoten sind auch bei der EUV-Optik substanzielle Weiterentwicklungen notwendig Neben der weiteren Erhöhung der Leistung der EUV-Lichtquelle von derzeit circa 200 Wauf bis zu 500 Wscheint die wichtigste Weiterentwicklung die Vergrößerung der numerischen Apertur der Belichtungs - geräte von jetzt 0 33 zu später 0 55 und möglicherweise noch bis zu 0 7 zu sein Damit sind wieder neue Probleme für die Maske verbunden was zunehmend zu der Frage führt ob die Industrie bei der seit Jahrzehnten bewährten Maskengröße von 6-Zoll-Quadraten bleiben oder einen Wechsel zu kreisrunden Formaten mit 300 mm Durchmesser mit der Aussicht auf wesentliche Vorteile zumindest in Erwägung ziehen sollte In einer Präsentation von Taguhi Yeghoyan Yole Developpement wurde ein Überblick über den aktuellen Gesamtmarkt in der Halbleiterindustrie gegeben Daraus konnte man ablesen dass Halbleiterund Photonik-Produkte für deren Herstellung EUV-Technologie weder technisch notwendig noch ökonomisch sinnvoll ist nach wie vor und auch in der überschaubaren Zukunft in absoluten Zahlen weit überwiegen werden Dementsprechend werden alle in Anwendung befindlichen Technologien weiterentwickelt und Fortschritte sind keineswegs auf die EUV-Technologie beschränkt Keynote-Sprecher bei der EMLC war Luc van den Hove Präsident des Imec Bild VDE