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Nr 41 2024 www markttechnik de 17 www wibu com Schutz für Robotik Anzeige Canon kann liefern Nanoimprint statt optische Lithografie Canon ist überzeugt davon dass die Nanoimprint-Lithografie nicht nur eine kostengünstige Alternative zur optischen Lithografie ist sondern der Weg in die Zukunft – und EUV überholen kann Jetzt hat Canon verkündet sein modernstes Nanoimprint-Lithografiesystem NIL für die Halbleiterfertigung vom Typ »FPA-1200NZ2C« an das Texas Institute for Electronics TIE auszuliefern TIE will die FPA-1200NZ2C für die Forschung und Entwicklung der neusten ICs und die Herstellung von Prototypen einsetzen Canon rechnet mit starker Nachfrage Wegen der vielen Vorteile der NIL-Technik gegenüber der optischen Lithografie rechnet Canon für die Zukunft mit einer stark steigenden Nachfrage nach Maschinen für die NIL-Technik In drei bis fünf Jahren sollen dutzende Maschinen pro Jahr verkauft werden Deshalb plant Canon bereits den Bau eines neuen Werks für deren Produktion in Japan Damit soll die derzeitige Kapazität verdoppelt werden Denn das Unternehmen ist überzeugt davon dass die NIL-Technik der nächste logische Schritt in der Lithografie sei NIL werde entscheidend dazu beitragen Moore’s Law weiterhin Geltung zu verschaffen Canon hatte zu den führenden Herstellern von optischen Lithografiegeräten gehört und baut sie noch immer wurde aber von ASML überholt ASML ist derzeit das einzige Unternehmen weltweit das – im Verbund eines Ökosystems zu dem als größte Partner Zeiss und Trumpf gehören – EUV-Maschinen integrieren und anbieten kann Gemessen daran steckt die NIL-Technologie noch in den Anfängen vor allem in der Front-End-Fertigung von ICs In Europa entwickeln Firmen wie Süss Microtec und die EV Group NIL-Systeme allerdings nicht für den Einsatz in der Front-Endsondern vor allem in der Back-End-Fertigung beispielsweise für Advanced Packaging und Heterogeneous Integration Canon setzt aber auf das Front-End Mit der Markteinführung der FPA-1200NZ2C am 13 Oktober 2023 hat Canon als weltweit erstes Unternehmen ein Halbleiterproduktionssystem auf den Markt gebracht das die Nanoimprint-Lithografie-Technologie nutzt NIL funktioniert ganz anders als die bisher für die Halbleiterfertigung verwendeten optischen Lithografiesysteme unabhängig davon mit welcher Lichtwellenlänge die Geräte arbeiten um die erforderlichen Strukturen für den Aufbau von ICs in das Halbleitermaterial zu bringen Wie NIL funktioniert Im Gegensatz zu herkömmlichen Fotolithografieanlagen die die Maske durch die Projektion von Licht auf den mit einem Fotolack beschichteten Wafer übertragen wird bei der NIL-Technik ein mit dem Schaltkreismuster bedruckter Stempel der häufig auch Maske genannt wird in den Fotolack auf den Wafer gedrückt Während bei der optischen Lithografie aber der gesamte Wafer mit dem Fotolack beschichtet wird werden bei NIL Tröpfchen des flüssigen Lacks nur dort aufgetragen wo sie erforderlich sind Dazu setzt Canon dieselbe Das Nanoimprint-Lithografie-System »FPA-1200NZ2C« hat Canon für die Fertigung von ICs in Front-End-Fabs konzipiert um die Lithografiekosten deutlich zu reduzieren und Moore’s Law weiterhin Geltung zu verschaffen Bi ld er Can on Technologie ein die auch bei den Tintenstrahldruckern des Unternehmens verwendet wird Jeder Tropfen kann gemessen kontrolliert und präzise dosiert werden Hat der Stempel bzw die Maske die Strukturen in den Fotolack übertragen wird die Maske entfernt und die kleinen Strukturen werden mit UV-Licht ausgehärtet Um die NIL-Masken zu fertigen die von Zeit zu Zeit ausgewechselt werden müssen hat Canon ebenfalls eine eigene Maschine entwickelt Diese beiden Maschinen zusammen mit dem im eigenen Haus entwickelten Prozess bilden das NIL-Gesamtsystem aus dem Hause Canon Weil die Übertragung der Schaltkreismuster nicht über einen optischen Mechanismus erfolgt können feine Strukturen auf der Maske