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6 Elektronik 21 2024 GMM-News Wichtige Forschungsergebnisse für die Maskenherstellung und Lithographie Die drei Preisträger der EMLC Die EMLC 2024 – 39th European Mask and Lithography Conference überzeugte auch in diesem Jahr durch ein umfassendes und abwechslungreiches Vortragsund Posterpräsentationen zu Innovationen aus der Maskenherstellung und Lithographie Daneben waren erneut drei Preise ausgelobt Wir stellen Ihnen die Preisträger und ihre Arbeiten vor Zeiss Award for Talents in Photomask Industry Der »Zeiss Award for Talents in Photomask Industry« prämiert das beste Paper der studentischen Session Nicolas Triomphe et al beschreiben in ihrem Beitrag einen bemerkenswert originellen Ansatz zur Erzeugung von Nanostrukturen durch geeignet zusammengebaute DNA-Moleküle die sich auf dem Substrat selbst zu den gewünschten Geometrien formen Auch erste experimentelle Ergebnisse sind in der Arbeit dargelegt Das Team von Nicolas Triomphe betreibt seine Studien im Centre de Biologie Structurale INSERM CNRS der Universität von Montpellier in Kooperation mit der Universität Grenoble-Alpes und CEA-Leti in Grenoble EMLC 2024 Best Paper Award Mit dem Best Paper Award der EMLC wurde Lieve van Look ausgezeichnet Das Paper von van Look et al befasst sich mit einem der aktuellen Probleme beim Übergang zur EUV-Lithographie mit High-NA-Geräten Bei High-NA beträgt die numerische Apertur des optischen Systems 0 55 Eine wesentliche Eigenschaft von High-NA-Geräten ist das anamorphe Abbildungsverhältnis das heißt in einer Richtung liegt der Vergrößerungsfaktor bei 4 in der anderen Richtung bei 8 Dadurch ist es möglich dass sehr große Chips auf zwei Masken aufgeteilt werden müssen die nacheinander belichtet werden aber an den Stoßstellen keine Störungen der Abbildung hervorrufen dürfen Das Paper demonstriert wie sich diese Herausforderung lösen lässt Lieve van Look forscht bei imec im belgischen Leuven EMLC 2024 Best Poster Award Der Gewinner des Best Poster Awards der EMLC 2024 ist Matthias Rösch der für Carl Zeiss SMT in Oberkochen tätig ist Das Poster von Matthias Rösch et al untersucht mögliche Ursachen für mangelnde Abbildungsgüte bei High-NA-Geräten Durch umfangreiche Messungen an einem AIMS-EUV und Vergleich mit Simulationsrechnungen wird gezeigt wie unter bestimmten Bedingungen durch Beleuchtungskonfiguration und die 3D-Struktur der Maske Phasenverschiebungen entstehen die die Abbildungsgüte erheblich beeinflussen können Die EMLC 2024 Auf der EMLC 2024 wurden im Rahmen von 72 Präsentationen die aktuellen Entwicklungen aus der Maskenherstellung und Lithographie diskutiert In der Elektronik 17 2024 haben wir ausführlich da rüber berichtet Save the Date Die 40 Ausgabe der EMLC wird im Juni 2025 in Dresden stattfinden ih Den Best Paper Award der EMLC erhielt Lieve van Look Bild VDE Matthias Rösch überzeugte die Jury des Best Poster Awards Bild VDE Der Preisträger des Zeiss Award for Talents in Photomask Industry Nicolas Triomphe Bild VDE