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6 Elektronik 19 2023 GMM-News Erfolgreiche Rückkehr nach Dresden EMLC 2023 mit Teilnehmer-Rekord Nach vier Jahren Abwesenheit fand im Juni dieses Jahres die »European Mask and Lithography Conference« EMLC wieder einmal in Dresden statt In ihrer 38 Auflage konnte die Konferenz mit circa 200 Teilnehmern einen neuen Teilnehmerrekord verzeichnen Nach pandemiebedingter Zwangspause und einer sehr erfolgreichen Rückkehr zur Präsenzveranstaltung letztes Jahr in Leuven Belgien bot sich den Teilnehmern auch in Dresden ein prall gefülltes Programm mit 38 Vorträgen davon fünf Keynotes und elf »Invited Presentations« zwölf Postern und zwei Tutorials Die Inhalte der Präsentationen spiegelten die aktuellen Schwerpunkte und Entwicklungsrichtungen der Maskenund Lithographie-Technologie wider behandelten aber auch allgemeine Aspekte der Halbleiterindustrie Zur Einstimmung zeigte gleich der erste Keynote-Vortrag von Giacomo Indiveri ETH Zürich Alternativen für eines der großen und oft vernachlässigten Probleme der modernen Computer-Nutzung auf – den exzessiven Energiebedarf einiger »Killer«-Applikationen Waren es vor Kurzem noch die Bitcoin-Miner die den Energiebedarf kleiner Nationen übertrafen so wird jetzt geschätzt dass für Anwendungen der künstlichen Intelligenz Sprachmodelle und Bildgeneratoren wie ChatGPT und Dall Eschon in wenigen Jahren etwa 20 % der globalen Energieerzeugung aufgewendet werden müssen falls die Entwicklung so weitergeht wie bisher Eine mögliche Alternative könnte »Neuromorphic Intelligence« darstellen also eine völlig andere Computerarchitektur die sich an der Arbeitsweise von biologischen Gehirnen orientiert und verspricht eine vergleichbare Leistung bei einem um den Faktor 100 bis 1000 geringeren Energiebedarf zu erzielen Ein aussichtsreiches Bauelement zur Realisierung solcher Einheiten ist der sogenannte Memristor Für die gesamte Prozesskette ist es eine spannende Problemstellung solche Bauelemente optimal in den Halbleiter-Produktionsprozess zu integrieren Der interessierte Leser findet ausreichend weiterführende Artikel zu diesem Thema Weitere Keynotes von Joe English Intel Christian Koitzsch Bosch und Dominik Thron Infineon über die neuen Halbleiterfabriken im irischen Leixlip Intel in Dresden Bosch Infineon und zukünftig in Magdeburg Intel gaben nicht nur einen faszinierenden Einblick wie sich die Halbleiterindustrie in Europa unter dem Einfluss von Lieferkettenproblemen und neuen Förderprogrammen weiterentwickeln wird sondern auch in die ungeheuren Herausforderungen finanzieller und organisatorischer Natur ein modernes Halbleiterwerk zu errichten und mit Gewinn zu betreiben Weiterentwicklung der EUV-Lithographie Der größte Teil der Vorträge widmete sich dann doch den aktuellen Entwicklungen in den Maskenund Lithographie-Technologien wobei die größten Herausforderungen natürlich in der Weiterentwicklung der EUV-Lithographie Extremes Ultraviolett Wellenlänge 13 5 nm zu finden sind Während die momentan kommerziell verfügbare High-End-Elektronik in 7-nmbzw 4-nm-Prozessen gefertigt wird lassen die Roadmaps für Halbleitertechnologien in den nächsten Jahren Technologie-Nodes erwarten die beispielsweise A20 oder A14 genannt werden was 2 nm bzw 1 4 nm entspricht Um solche Strukturen abbilden zu können muss die EUV-Technologie in allen Aspekten noch einmal deutlich weiterentwickelt werden Bei den Belichtungsgeräten spielt die numerische Apertur des optischen Systems gegenwärtig die Hauptrolle Bei heute verfügbaren Geräten liegt dieser Wert bei 0 33 um Strukturen eines A20-oder A14-Prozesses abbilden zu können wird aber eine numerische Apertur von 0 55 oder größer benötigt Das bedeutet vor allem dass die Einzelteile des optischen Systems größer werden müssen ohne dass Abstriche bei der Genauigkeit zugelassen werden dürfen Die Elemente des optischen Systems sind ausschließlich Spiegel mit asphärischen Flächen für die sodann Größen von bis zu einem Meter Durchmesser nötig sein werden Dabei darf die tatsächliche Oberfläche im Durchschnitt nicht mehr als circa 20 pm von der idealen Oberflächenform abweichen – eine Präzision die sich dem normalen Vorstellungsvermögen entzieht In mehreren Vorträgen von Zeiss und ASML wurde detailliert dargestellt welche riesigen Aufwände nötig sind um solch ein optisches System bzw das ganze Belichtungsgerät herzustellen und zu testen Bild Top pa n Ph ot om as ks